SCREENの歴史：1989～2004

「改革なくして存続なし」を合言葉に

1989	仏・パリに Dainippon Screen (France) S.A. を設立
	カナダ・トロントに Dainippon Screen (Canada) Inc. を設立
	三代目社長に石田明が就任
1990	台湾に Dainippon Screen (Taiwan)Co., Ltd. を設立
	「OMEGAネットワーク」構想を「DRUPA90」で披露
	液晶ディスプレー製造技術を推進
1991	伊・ボローニャの印刷機器販売会社 Bancolini S.r.l. を買収
1991	ベルギー・ブリュッセルに欧州統括本部を設置
1992	野洲工場を新設、半導体製造装置の生産力を強化
	ウエハー汚染を解消する搬送システムを採用した新洗浄装置「ウェットステーション WS-820L」を開発
	「ジェナスキャン1015」をはじめとするDTP関連機器を開発・リリース
1993	印刷製版用統合システム「レナトス」を開発。標準システム対応のオープン化コンセプトを採用
1993	グラビア電子彫刻システム「バルカス」を開発
1994	米国で半導体製造装置事業を強化。テキサス州ダラスにオフィスを開設
1995	当社初のダイレクト刷版出力機（CTP）「プレートライト1080」を開発。製版工程のフルデジタル化に貢献。製版用フイルムや現像液などが不要となり、環境にも配慮
1995	世界最高速のイメージセッター2機種を開発
1996	デジタルカラースキャナーの最上位機種「スーパージェナスキャン8060」を開発
1996	半導体製造装置スピンナー「D-SPIN200」を発表。搬送スピードを50%アップ、装置サイズを30%減、省ペースに対応
1997	営業・管理部門を主体とする本社事業所が国際環境規格「ISO14001」の認証取得
	国際品質規格「ISO9001」認証をはじめて取得。これを機に、全製造事業所に展開を開始
	DTPスキャナー「ジェナスキャンFT-S5000」を開発
	単槽型のウエットステーション「FC-821L」を発表。半導体製造に新しい生産プロセスを提唱
	300ミリウエハー対応の半導体製造装置「FC-3000」を発表
1998	全製造事業所において国際品質規格「ISO9000」シリーズの認証取得
	国産初のデジタル印刷システム「TruePress544」を開発
	多賀事業所が操業開始。微細化とウエハーの大口径化に対応した次世代の半導体製造装置の生産拠点を構築
	サーマル（熱）感材用の刷版出力機(CTP)「プレートライト8000」をリリース
1999	スクリーン、TOWA、堀場で共同出資会社「株式会社サーク」を設立。電子機器の中古装置のリサイクル事業を展開
	東南アジア・シンガポールと台南に半導体製造装置のサポート拠点を強化
	スクリーン、富士フイルム、NTTコミュニケーションズが共同発表。印刷・出版・広告業界向け高速ネットワークで運用する通信アプリケーションの実用トライアルを開始
	菊半サイズ・2色のデジタル印刷システム「TruePress742」、世界最高速のモノクロデジタル印刷システム「TruePressV-200」を開発
	業界最大サイズ（第4世代）のガラス基板に対応した液晶製造装置「750」シリーズを開発
2000	「ヒラギノフォント」をアップルが採用（Mac OS Xへの標準搭載を発表）
	環境管理中期5カ年計画「エコ・バリュー21」を策定、環境保全、製品安全性、労働安全衛生を強化
	世界最大の印刷機メーカー、ハイデルベルク社とCTPの相互技術提供に合意
	光学式外観検査装置「PI-7900」を発売
	インターネットで資材調達を開始
	300ミリウエハー対応の枚葉洗浄装置「MP-3000」を開発
	ベンチャー支援制度を導入
2001	本格的なCTP時代に向け最上位機種のサーマルプレートレコーダー「PlateRite8600」を発売
	株式会社神戸製鋼所からプリント基板検査装置事業を譲り受ける
	印刷のe-ビジネス「プリントパラダイス」ASPサービス開始
	第5世代ガラス基板サイズに対応したTFT用液晶製造装置「1000」シリーズを発売
	労働安全衛生マネジメントシステム「OHSAS18001」を認証取得
	株式会社神戸製鋼所と超臨界流体技術を用いた次世代半導体製造装置を共同開発
	IMEC研究所と半導体ウエハー・ウルトラクリーン洗浄技術を共同開発。最先端パッケージングおよび配線技術に関する戦略提携に参加
2002	社内カンパニー制を導入
	第5.5世代ガラス基板サイズに対応したTFT用液晶製造装置「1100」シリーズを発売
	会社分割によりメディアテクノロジーカンパニーの国内販売部門を分社化、株式会社メディアテクノロジージャパンを設立
	エコノミータイプのプリント基板用光学式外観検査システム「PI-8000」を発売
	東京エレクトロン株式会社、株式会社荏原製作所との3社で、半導体製造用低加速電子ビーム直描装置に関する合弁会社を設立
	超大型コピー機「アゼロ・オリジネータ」が「人間コピー機」として人気を博する
	中国・上海に半導体・液晶製造装置の販売・保守サービス会社を設立
2003	100回目の職務発明審査会を開催
	サーマルCTP「PlateRite8800」を発売
	アップル、アドビ、モリサワと共同でMac OSXによる次世代DTPを推進するプロジェクトを発足
	サーマルCTP「PlateRite Ultima」を発売
	ニコンと次世代半導体フォトリソプロセスを共同研究
	次世代塗布現像機「RF³（アールエフキューブ）」を発売
	半導体製造装置およびフラットパネルディスプレー製造装置に関するサービス事業を再編、株式会社SEBACS、株式会社FEBACSを設立
	第6世代ガラス基板対応TFT液晶用塗布現像装置「SK-1500G」を発売
	韓国と台湾にフラットパネルディスプレー製造装置に関する保守サービスの拠点を拡充
2004	新世代デジタル印刷システム「TruePress（トゥループレス）344」を開発
	大サイズプレートに対応したサーマルCTP「PlateRite Ultima 16000」を開発
	世界最大サイズのガラス基板に対応する第7世代TFT液晶ディスプレー用製造装置「SK-1800G」を発売
	画像素材などデジタルコンテンツの出版および販売を行う子会社、マイザ株式会社を設立
	定年退職者の再雇用を担う新会社、株式会社リバージョン65を設立
	立命館大学および中国・上海交通大学との包括的な研究協力協定に調印
	メーカー企業6社参画、「マイクロケミカル・イニシアティブ」を発足
	文化財の電子保存事業に協力。直立型大サイズスキャナーで京都府神社庁デジタルアーカイブ実行プロジェクトをサポート
	真宗大谷派（東本願寺）から瓦印刷業務を受託。新たなシステムで文化財の修復事業をサポート
	塗布現像装置「RF³」とASML社の露光装置を接続した状態で、世界初の毎時150枚の高速処理を実用化
	中国・杭州の印刷関連機器製造子会社、工場の操業を開始
	ファインケミカルの開発と工業生産の直結を実現する、マイクロリアクターの装置化に成功