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Product Lists- 製品一覧 -

ウェーハ洗浄装置

ウェットステーション

FC-3100
FC-3100
ウェットステーション
WS-620C/WS-820C/WS-820L
WS-620C/WS-820C/WS-820L
ウェットステーション
FC-821L
FC-821L
ウェットステーション
CW-2000
CW-2000
コンパクトウェットステーション

スピンプロセッサ

SU-3400
SU-3400
枚葉式洗浄装置
SU-3300
SU-3300
枚葉式洗浄装置
SU-3200
SU-3200
枚葉式洗浄装置
SU-2000
SU-2000
枚葉式洗浄装置
SP-2100
SP-2100
スピンプロセッサ

スピンスクラバ

SS-3300S
SS-3300S
スピンスクラバ
SS-3200
SS-3200
スピンスクラバ
SS-3200 for 200mm
SS-3200 for 200mm
スピンスクラバ
SS-80EX
SS-80EX
スピンスクラバ

スピンスクラバ（ブラシ&薬液洗浄）

SB-3300
SB-3300
ウェーハ裏面洗浄装置

ポリマ除去

コータ・デベロッパ

RF-200EX/RF-300EX
RF-200EX/RF-300EX
コータ・デベロッパ
DT-3000（SOKUDO DUO）
DT-3000（SOKUDO DUO）
コータ・デベロッパ
SK-60EX/SK-80EX
SK-60EX/SK-80EX
コータ・デベロッパ
SC-80EX
SC-80EX
スプレーコータ

熱処理装置

LA-3100
LA-3100
フラッシュランプアニール装置

計測装置

RE-3500
RE-3500
エリプソ式膜厚測定装置
VM-2500/VM-3500
VM-2500/VM-3500
光干渉式膜厚測定装置
VM-1200/VM-1300
VM-1200/VM-1300
光干渉式膜厚測定装置
VM-1020
VM-1020
光干渉式膜厚測定装置

検査装置

ZI-3600
ZI-3600
パターン付きウェーハ外観検査装置
ZI-2000
ZI-2000
パターン付きウェーハ外観検査装置

半導体パッケージ関連装置

DW-3100
DW-3100
先端パッケージ向け直接描画露光装置
DW-3100(PLP対応)
DW-3100(PLP対応)
先端パッケージ向け直接描画露光装置
LeVina
LeVina
次世代パターン用直接描画装置
Lemotia
Lemotia
PLPコータシステム

ガラス基板（フォトマスク）向け装置

DR-8000
DR-8000
自動線幅測定装置

製品情報