製品情報

• コータ・デベロッパ

  • コータ・デベロッパ DT-3000（LithoSpinDUO-S）
  • コータ・デベロッパ DT-3000（SOKUDO DUO）
  • コータ・デベロッパ RF-310A
  • コータ・デベロッパ SK-60EX/80EX
  • スプレーコータ SC-80EX

• ウェーハ洗浄装置

  ウェットステーション

  • ウェットステーション FC-3100
  • ウェットステーション WS-620C/WS-820L
  • ウェットステーション FC-821L
  • コンパクトウェットステーション CW-2000
  • コンパクトウェットステーション CW-1500

  スピンプロセッサ

  • 枚葉式洗浄装置 SU-3300
  • 枚葉式洗浄装置 SU-3200
  • 枚葉式洗浄装置 SU-3100
  • 枚葉式洗浄装置 SU-2000

  スピンスクラバ

  • スピンスクラバ SS-3200
  • スピンスクラバ SS-3100
  • スピンスクラバ SS-80EX

  ポリマ除去

  • 枚葉式洗浄装置 SU-3100
  • 枚葉式洗浄装置 SU-2000

• 熱処理装置

  • レーザーアニール装置 LT-3100
  • フラッシュランプアニール装置 LA-3100
  • フラッシュランプアニール装置 LA-3000-F
  • 赤外線ランプアニール装置 LA-830

• 計測装置

  • エリプソ式膜厚測定装置 RE-3500
  • 光干渉式膜厚測定装置 VM-2200/3200
  • 光干渉式膜厚測定装置 VM-1200/1300
  • 光干渉式膜厚測定装置 VM-1020

• 検査装置

  • パターン付ウェーハ外観検査装置 ZI-3500
  • パターン付きウェーハ外観検査装置 ZI-2000

• 後工程用露光装置

  • 大型パネル用直接描画装置 DW-6000
  • 半導体後工程用直接描画装置 DW-3000

• イオン注入装置

  • Purion シリーズ（Axcelis社製品）