製品情報

• ウェーハ洗浄装置

  ウェットステーション

  • ウェットステーション FC-3100
  • ウェットステーション WS-620C/WS-820C/WS-820L
  • ウェットステーション FC-821L
  • コンパクトウェットステーション CW-2000

  スピンプロセッサ

  • 枚葉式洗浄装置 SU-3300
  • 枚葉式洗浄装置 SU-3200
  • 枚葉式洗浄装置 SU-2000
  • スピンプロセッサ SP-2100

  スピンスクラバ

  • スピンスクラバ SS-3300S
  • スピンスクラバ SS-3200
  • スピンスクラバ SS-80EX

  スピンスクラバ（ブラシ&薬液洗浄）

  • ウェーハ裏面洗浄装置 SB-3300

• コータ・デベロッパ

  • コータ・デベロッパ DT-3000（SOKUDO DUO）
  • コータ・デベロッパ SK-60EX/SK-80EX
  • スプレーコータ SC-80EX

• 熱処理装置

  • レーザーアニール装置 LT-3100
  • フラッシュランプアニール装置 LA-3100

• 計測装置

  • エリプソ式膜厚測定装置 RE-3500
  • 光干渉式膜厚測定装置 VM-2500/VM-3500
  • 光干渉式膜厚測定装置 VM-1200/VM-1300
  • 光干渉式膜厚測定装置 VM-1020

• 検査装置

  • パターン付きウェーハ外観検査装置 ZI-3500
  • パターン付きウェーハ外観検査装置 ZI-2000

• 後工程用露光装置

  • 大型パネル用直接描画装置 DW-6000
  • 半導体後工程用直接描画装置 DW-3000
  • ダイ座標測定装置 MC-6000