- 文字サイズ
- A
- A
エリプソ式膜厚測定装置
RE-3500
loT向け電子デバイスに対応した計測装置
特長
1. 微小エリア・高精度測定
マイクロスポット光学系の採用により、40μm角の微細なエリアを高精度に測定します。
2. ハイスループット
新開発光学ヘッドを搭載し、従来比2倍のハイスループットを実現しました。
3. 分光エリプソメータ搭載
膜厚と光学定数の同時測定が可能。膜厚だけでなく、膜質の管理を行うことが重要な工程や、薄膜材料の開発、成膜プロセス開発に適しています。
4. 単波長エリプソメータ搭載可能（オプション）
膜厚20nm以下の超薄膜を高精度で測定可能な単波長エリプソメータ（オプション）も搭載可能です。光源に長寿命タイプのレーザーダイオードを採用しており、大幅にランニングコストを削減します。
- ※SWE Single Wavelength Ellipsometer 単波長エリプソメータ
- ※SE Spectroscopic Ellipsometer 分光エリプソメータ
- ※SR Spectroscopic Reflectometer 光干渉式膜厚計
製品情報
-
- ウェーハ洗浄装置
-
ウェットステーション
スピンプロセッサ
スピンスクラバ
スピンスクラバ（ブラシ&薬液洗浄）
-
- 後工程用露光装置
