最大24 チャンバ搭載
4段× 6 タワー構造
APAC2
Nanodry7
Nano control nozzles
Nanocycle
シングルチャンバサービス

半導体デバイスの微細化・多様化に伴い、ウェット洗浄装置には脆弱構造のパターン倒壊抑制、微小パーティクルの制御などの課題をクリアしながら、さらにC.O.O.低減を実現する高い生産性と安定稼動が求められています。
SCREENセミコンダクターソリューションズは、1983年に回転式枚葉洗浄装置を開発して以来、今日まで長年にわたってウェーハ上の気液界面の最適な処理を追求し、枚葉式洗浄の技術を進化させてきました。その技術とノウハウを受け継ぐ7番目の装置として誕生した「SU-3300」は、最大24チャンバ搭載を可能とした圧倒的な生産性の高さと、高い処理性能、さらにチャンバ間差を最小化する最新の機能を搭載することで、安定稼動を実現。今後ますます厳しくなる半導体デバイス製造の要求に、的確にお応えします。

特長

1. 業界最大の24チャンバ搭載

枚葉式洗浄装置分野で世界最高水準、SU-3200との比較でおよそ2倍、という驚異の生産性を実現。優れた洗浄品質と、バッチ式洗浄装置にも迫る処理能力で、半導体デバイス製造を強力にサポートします。

2. 微細パターンの倒壊を大幅に抑制

ウェーハ上の気液界面の制御を、高精度かつスピーディに処理する新乾燥技術「Nanodry7」。チャンバ内の温度・湿度を常に最適な状態にコントロールし、より微細化の進む高アスペクト比の脆弱パターン倒壊抑制に優れた効果を発揮します。

3. 優れたエッチング均一性と薬液削減を実現

薬液の温度・流量・吐出位置を高精度に制御する「Nanocontrol nozzle」を搭載。従来比約半分の薬液で、ウェーハ面内のエッチング均一性を飛躍的に高めることが可能です。

4. チャンバ清浄度をさらに高める「APAC2※」

SU-3200に搭載の超清浄化技術「APAC」がさらに進化。チャンバ内の気流を高精度に制御する新技術ASC（Advanced Stream Control）により、チャンバ内の処理環境が向上。チャンバ間差の低減にも貢献します。

※ APAC2: Advanced Process Atmosphere Control 2の略称。チャンバ内の超清浄化に対する当社独自のクリーン化技術。

枚葉式洗浄装置

SU-3300

特長

1. 業界最大の24チャンバ搭載

2. 微細パターンの倒壊を大幅に抑制

3. 優れたエッチング均一性と薬液削減を実現

4. チャンバ清浄度をさらに高める「APAC2※」

製品情報