最大24チャンバによる高い生産性と、
最高水準の処理技術を結集した枚葉式洗浄装置
最大4段×6タワー構造のチャンバ搭載により、高い生産性を実現しています。
最新の乾燥技術により、ウェーハ上の気液界面を高精度かつスピーディに制御。 チャンバ内の温度・湿度を常に最適な状態にコントロールし、より微細化の進む高アスペクト比の脆弱パターン倒壊抑制に優れた効果を発揮します。
薬液の温度・流量・吐出位置を高精度に制御する「Nanocontrol nozzle」技術を搭載。従来比約半分の薬液で、ウェーハ面内のエッチング均一性を飛躍的に高めることが可能です。
SU-3200に搭載の超清浄化技術「APAC」がさらに進化。チャンバ内の気流を高精度に制御する新技術ASC(Advanced Stream Control)により、チャンバ内の処理環境が向上。チャンバ間差の低減にも貢献します。
ウェットステーション
スピンプロセッサ
スピンスクラバ
スピンスクラバ(ブラシ&薬液洗浄)