SOKUDO DUO
毎時450枚以上のハイスループットを実現するデュアルトラックシステム
デュアルプロセスラインでウェーハ処理を並行に進めることにより、各ラインのウェーハ搬送速度を抑えながら、飛躍的なスループット向上を実現しました。同時に搬送システムの高信頼性も確保しています。
デュアルプロセスラインを独立に運用することも可能。メンテナンスなどを行いながら、生産を行うことができ、装置のダウンタイム低減が図れます。高価な露光機を常にウェーハ処理状態に保つことにより、高生産性を実現します。
デュアルプロセスラインをコンパクトに収めたプラットフォーム設計により、大幅なフットプリントの削減を実現。また柔軟な装置構成の組み合わせにより、プロセスに応じた最適かつ最小なフットプリントでの設置を可能にします。
長年培ってきた塗布・現像・ベークなどの技術ノウハウを全面的に継承するとともに、先端液浸リソグラフィをはじめ、EUVリソグラフィ、電子ビーム、ダイレクトセルフアッセンブリ(DSA)への対応、量産の歩留まり向上に効果を発揮する独自技術の搭載など、最先端分野で想定されるさまざまな環境に対応します。
ウェットステーション
スピンプロセッサ
スピンスクラバ
スピンスクラバ(ブラシ&薬液洗浄)