株式会社SCREENホールディングスならびに株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズはこのほど、公益財団法人 大河内記念会が主催する第70回大河内賞において「大河内記念生産賞」を受賞しました。

大河内賞は毎年、日本の生産工学、生産技術にかかる研究開発において、卓越した業績をあげた研究者や企業等に贈呈され、その功績をたたえる権威ある賞です。このたび当社が受賞した「大河内記念生産賞」は、生産技術、高度生産方式等の研究により得られた優れた発明または考案に基づく産業上の顕著な業績をあげた事業体に贈られます。

今回の受賞は、「半導体デバイスの微細化と生産性向上に貢献する半導体洗浄装置の開発」において、洗浄乾燥性能、生産性、環境性能の優れた特性と強固な製品競争力を有している点が評価されたものです。当社の半導体洗浄装置は、精緻な流体シミュレーション技術などを駆使することにより、微細化が加速する半導体製造の先端領域に対応した高精度な洗浄技術を備え、優れた洗浄乾燥性能を実現するとともに、高スループット化による高い生産性を実現しています。加えて、効率的な薬液循環システムにより薬液の使用量を節減することで、製造工程における環境負荷の低減に貢献します。

当社グループは、今後もお客さまの幅広いニーズに対応し、エレクトロニクス業界へのさらなる発展に貢献していきます。

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