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株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

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Product

コンパクトウェットステーション

CW-2000

フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置

  • 300mm
  • C-WET spin

特長

1. オールインワンコンセプト

薬液供給ユニットおよび冷却ユニットを本体内部に搭載。
当社従来装置との比較で約45%の省スペース化を実現しました。

2. 多様な処理ウェーハに対応

1台の装置で、50mmから200mmまで幅広いサイズに対応します。

3. 新乾燥ユニットをラインアップ

従来のDIS(Drain & IPA Substitution)乾燥に加えて、IPAを使用しない環境に優しい温風乾燥方式(HBD: Hot Blow Drying)を新たにラインアップ。お客さまの使用条件に応じて選択が可能です。

4. フレキシブルな拡張性

お客さまの生産性と導入スペースに応じて、処理槽数を4・6・8槽と拡張可能です。

5. 生産性アップ

従来比1.5倍の毎時150枚の生産を実現。さらにハーフピッチ仕様(オプション)では、最大毎時300枚まで生産性が向上します。

6. RCA洗浄に対応

半導体洗浄で従来から主流となっている、歩留まり向上に有効なRCA洗浄にも対応します。

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