製品情報

ウェーハ洗浄装置

ウェットステーション

FC-3100
300mm
FC-3100
ウェットステーション
300mm
FC-3000
ウェットステーション
WS-820L, WS-820C / WS-620C
200mm
WS-820L, WS-820C / WS-620C
ウェットステーション
FC-821L
20mm
FC-821L
ウェットステーション
CW-1500
CW-1500
コンパクトウェットステーション

スピンプロセッサ

SU-3200
 
SU-3200
枚葉式洗浄装置
SU-3100
300mm
SU-3100
枚葉式洗浄装置
SU-3000
300mm
SU-3000
枚葉式洗浄装置
MP-2000
200mm
MP-2000
スピンプロセッサ

スクラバ

SS-3200
new
SS-3200
スクラバ
SS-3100
300mm
SS-3100
スクラバ
SS-80BW/SS-W60A
20mm
SS-80BW / SS-W60A
スクラバ

CMP後洗浄

AS-2000
200mm
AS-2000
CMP後洗浄装置

ポリマ除去

SU-3100
300mm
SU-3100
枚葉式洗浄装置
SU-3000
300mm
SU-3000
枚葉式洗浄装置
SR-2000
200mm
SR-2000
枚葉式ポリマ除去装置

熱処理装置

LA-3000-F
300mm
LA-3000-F
フラッシュランプアニール装置
LA-830
200mm
LA-830
赤外線ランプアニール装置

計測装置

REシリーズ
REシリーズ
エリプソ式膜厚測定装置
VM-2200/3100シリーズ
VM-2200/3200シリーズ
光干渉式膜厚測定装置
ラムダエース
VM-1200シリーズ
VM-1200シリーズ
光干渉式膜厚測定装置
ラムダエース
VM-1020/1030
VM-1020/1030
光干渉式膜厚測定装置
ラムダエース

検査装置

ZI-2000
ZI-2000
パターン付きウェーハ外観検査装置

後工程用露光装置

DW-3000New
DW-3000
半導体後工程用直接描画装置

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