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LEVINA 次世代パターン用直接描画露光装置 カタログ rin

FCCSP、FCBGA、FOPLP 등의
첨단패키지에 대응하는 패터닝용
다이렉트이미징 노광기

세계 최고 수준의 ‘5μm 고해상도 묘화’

독자적인 GLVTM 광학 엔진을 탑재한 묘화 헤드와 독자 기술을 이용한
광학 시스템의 레이저 제어 기술을 융합하여, 양산형 직묘
노광기로서 세계 최고 수준의 해상력인 5/5μm를 구현하여, 앞으로
더욱 미세화되어 가는 첨단 패키지 기술에 대응 가능.

世界最高水準の「5μm高解像度描画」

고속 양산

L/S=5/5μm의 해상도로 1시간당 100매 달성

신뢰성 높은 멀티헤드 시스템을 탑재했고, 480mm/sec의 고속
스테이지를 채용했으며, 정지하지 않고 얼라인먼트 마크를 읽고,
스캔 방향의 얼라인먼트 마크 개수에 영향받지 않는 높은 수율을
구현(자동화도 대응 가능). L/S=5/5μm의 해상도로 1시간당 100매
(기판 크기: 510x515mm)를 달성.

Scan alignment

낮은 러닝 코스트

레이저 다이오드를 광원으로 채용하여, 당사의 DW-6000 대비 1/3
수준의 러닝 코스트를 구현.

클린화

파티클소스 차단 및 반도체세정기술에서 실적 있는 기류제어기술로
설비 내 파티클을 억제시켜 수율 향상에 공헌.

본 제품은 SCREEN HD의 취급 제품이 됩니다.