面向FCCSP、FCBGA、
FOPLP等先进封装市场、
开发的直写式图形曝光设备
业界最高水平“5μm高分辨率成像”
直写头搭载了SCREEN独创的GLVTM光学引擎，激光控制技术使用了SCREEN独创的光学系统，并将这两种独创技术进行了完美融合；作为量产型直写图形曝光设备，到达了业内最高水平的5/5μm解析度；满足先进封装业内今后对图形精细化的需求。
高产能
在L/S=5/5μm解析度条件下， 实现100片/小时的高速产能
搭载了高可靠性的多头直写系统和480mm/sec的高速运动平台；连续扫描读取对位标记，产能不受扫描方向对位标志数量影响，实现了优秀的高速处理能力（支持自动化）；L/S=5/5μm解析度条件下：每小时100片的产能（基板尺寸510*515mm）
运行成本低
使用激光二极管作为光源，运行成本仅是本公司上一代装置（DW-6000）的1/3。
清洁技术
阻断颗粒物产生源头的同时，使用在半导体清洗设备上得到验证的气流控制技术，实现设备内部的清洁，减少因颗粒物引起的曝光不良，提高良品率。
本产品由 SCREEN HD 处理。