直写头搭载了SCREEN独创的GLVTM光学引擎,激光控制技术使用了SCREEN独创的光学系统,并将这两种独创技术进行了完美融合;作为量产型直写图形曝光设备,到达了业内最高水平的5/5μm解析度;满足先进封装业内今后对图形精细化的需求。
在L/S=5/5μm解析度条件下, 实现100片/小时的高速产能
搭载了高可靠性的多头直写系统和480mm/sec的高速运动平台;连续扫描读取对位标记,产能不受扫描方向对位标志数量影响,实现了优秀的高速处理能力(支持自动化);L/S=5/5μm解析度条件下:每小时100片的产能(基板尺寸510*515mm)
使用激光二极管作为光源,运行成本仅是本公司上一代装置(DW-6000)的1/3。
阻断颗粒物产生源头的同时,使用在半导体清洗设备上得到验证的气流控制技术,实现设备内部的清洁,减少因颗粒物引起的曝光不良,提高良品率。
本产品由 SCREEN HD 处理。