■イオン注入

イオン注入工程とは、半導体に電気（正確にいうと電子）が流れたり溜ったりするところを作る工程である。具体的には、シリコンウェーハにボロンや砒素などのイオンを注入する。
かなり乱暴に表現するなら、イオン注入をしないと、半導体の素子を正常に動作できる電気は通らない。つまり、イオン注入なしではまともに動くIC ができない。
なお、「イオン注入」は「イオン打ち込み」とか「イオンインプランテーション」とか「インプラ」と呼ばれたり、「I/I」という記号で示されたりすることもある。