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LEDIA6 直接描画装置 catalog カタログ rin

以世界最先進的技術為您開拓未來

大功率曝光機"Ledia 6H"

優化Ledia的光源並使其具有高功率的" Ledia 6H"
與目前的普通電源光源相比,我們的生產率提高了25%
*取決於所用感光材料的類型和處理條件

最大25%の生産性向上 Maximum improvement 25%

各種光阻劑的最佳曝光

配備強大的寬3波長UV-LED光源。
無論使用哪種類型,都可以獲得最佳的曝光結果,
不僅用於DI的高感度光阻劑,而且還用於通用乾膜光阻劑和防焊光阻劑

レジスト種を選ばず最適な露光
  • Solder resist
  • General purpose dry
    film resist
  • High sensitivity /
    DI dry film resist

最高水準的成像品質

Ledia 6 / 6H具備高解析度。
我們在package和madule等高解析度和高附加值領域提供極高的成像品質

  • L/S 12/12µm

    L/S 12/12µm
    (Fine line model)

  • L/S 30/30µm

    L/S 30/30µm
    (Standard mopdel)

  • 真円度分析

    Minimum dimensions of solder resist opening
    ・Standard model φ60µm
    ・Fine line model: φ40µm