独自のプラズマ源を採用し、超高速、高品質な真空成膜を実現

SCREEN独自のLIA™(低インダクタンスアンテナ)方式を用いた誘導結合型（ICP)プラズマ源により、低ダメージかつ高密度のプラズマ生成を実現。

関連製品情報
プラズマCVD装置　VC-R400G/F

関連製品情報
スパッタ装置　VS-R400G/F

LIAについて
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