SCREEN独自のLIA™(低インダクタンスアンテナ)方式を用いた誘導結合型(ICP)プラズマ源により、低ダメージかつ高密度のプラズマ生成を実現しました
真空成膜装置
![](http://images-ft.screen.co.jp/8115/4682/6250/LIA.png)
独自のプラズマ源を採用し、超高速、高品質な真空成膜を実現
![](http://images-ft.screen.co.jp/4915/4356/1720/LIA.jpg)
LIAについて
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※LIA™は株式会社イー・エム・ディーの商標または登録商標です。
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