実験用LIAスパッタ装置 VS-R400G/F

特長

  1. 実験・研究・評価・試作に最適なスパッタ装置。
  2. LIA™方式の誘導結合型プラズマ(LIA™-ICP) によるアシスト効果により、成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現します。
  3. ロータリーカソードを搭載することで、成膜速度の高速化が可能です。
  4. 本実験機での実証後は、生産機へのフィードバックが容易です。

量産装置への展開

装置仕様

 型番
VS-R400G
VS-R400F
 対象基材
ガラス板、金属板などの平板
樹脂フィルム(PET、PEN)、金属箔
 対象膜
ITO、アルミナ、化合物、各種金属膜
 基材サイズ※
W400 x L500 mm
川幅500㎜
 成膜方法
デポダウン、インライン成膜

※他基材サイズ対応につきましては、お問い合わせください。

※LIAは株式会社イー・エム・ディーの商標または登録商標です。

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