株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズは、東京エレクトロン株式会社、キヤノン株式会社と共同で、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）が公募した「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業／先端半導体製造技術の開発（助成）」の応募テーマ「先端半導体の前工程技術（微細化技術）の開発」に採択されたことをお知らせします。

今回の募集事業である「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業／先端半導体製造技術の開発（助成）」は、2nm以降の先端半導体製造プロセスのうち前工程における製造技術（微細化技術）の開発を目指しており、当社は、洗浄およびアニール技術と装置に関する研究開発を実施する予定です。
 

詳細につきましては、NEDOのウェブサイトをご覧ください。
https://www.nedo.go.jp/koubo/IT3_100173.html

当社は今回の事業採択を受け、半導体洗浄装置のリーディングカンパニーとして、先端半導体製造技術の開発を通じて、半導体業界のさらなる発展に貢献していきます。

本件についてのお問い合わせ先：
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
マーケティング部
TEL:075-417-2527

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