2021年2月16日
研究開発をリードするC2MIと共に、高生産性を実現するSCREENの直接描画システムを用いた量産技術の概要記事を寄稿
このたび、半導体やMEMS、パワーエレクトロニクスなど最新の電子デバイスに関する専門誌『Semiconductor Digest』誌に、サスティナビリティーかつイノベーションを追求する技術として、当社の取り組みが紹介されました。
この記事は、MiQro Innovation Collaborative Centre(C2MI)と共同で作成したもので、C2MIが当社の直接描画装置(DWシリーズ)への投資を決断した、さまざまなポイントを解説しています。
DWシリーズは、新製品の商品化までの期間短縮やチップ単位のトレーサビリティー、基板の歪み補正など、研究開発と大量生産の両面に貢献。さらに、フォトマスク作成プロセスが不要なため、化学物質の使用量も削減できます。
当社はこれからも、お客さまとより一層強固な関係を築き、世界規模での販売・サービスの積極的な展開を図り、業界の発展に貢献していきます。
C2MIについて
MiQro Innovation Collaborative Centre(C2MI)は、先端分野における迅速な商品化を目的に開発研究を先導する国際的な組織で、その分野はMEMS製造、先進パッケージング、システムの組み立てのほか、プリンタブル・エレクトロニクスなどに及びます。商品化と開発研究の最先端の拠点として、マーケット志向のプロトタイプ製品の生産を支援する役割を担い、商品化を加速させています。
URL:www.c2mi.ca
『Semiconductor Digest』誌について
『Semiconductor Digest』誌は、ニュースや寄稿、記者による取材記事を折り混ぜ、半導体やその他のエレクトロニクスデバイスの設計、製造、パッケージング、テストに関する情報を提供しています。MEMS、LED、ディスプレー、パワーエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス/フォトニクス、バイオメディカルデバイス、太陽電池、薄膜電池、フレキシブルエレクトロニクス製品などを対象とし、設計ツール、プロセスのための装置や材料、テスト装置の観点から、これらの各デバイスの固有の要件に焦点を当てています。
URL:http://www.semiconductordigest.com/