ウェット処理装置
大型TFTアレイで数多くの実績を誇るウェット処理装置
Tried and true wet processing systems for large TFT arrays
特長
洗浄装置 TSシリーズ
- 傾斜搬送方式と複合洗浄方式の採用による、優れたパーティクル除去率を実現。
- 傾斜搬送方式により、純水・エア使用量を低減。
ウェットエッチング装置 TEシリーズ
- 独自開発の各種スプレイ・ノズル、水平・傾斜処理の組み合わせにより、お客様のプロセスに合わせた優れたエッチング処理を実現。
- 水洗・乾燥槽では、傾斜処理により純粋・エア使用量を低減。
レジスト剥離装置 TRシリーズ
- 剥離ツール「マルチスキャンジェット」と傾斜処理により、高い剥離性能を実現。ミストの発生量を低減すると共に、レジスト再付着・残渣も防止。
- 傾斜処理により、純水・エア使用量を低減。
- 剥離後の洗浄機能として洗浄モジュールとのインラインも可能。
レジスト現像装置 TDシリーズ
- ディップ、スプレー、パドル処理から選択可能。
- 水洗・乾燥槽では、傾斜処理により純粋・エア使用量を低減。
- 塗布との一貫ラインで安定した薄膜形成を実現。
【対応基板サイズ】
300 × 300mm 以上