特長

洗浄装置 TSシリーズ

1. 傾斜搬送方式と複合洗浄方式の採用による、優れたパーティクル除去率を実現。
2. 傾斜搬送方式により、純水・エア使用量を低減。

ウェットエッチング装置 TEシリーズ

1. 独自開発の各種スプレイ・ノズル、水平・傾斜処理の組み合わせにより、お客様のプロセスに合わせた優れたエッチング処理を実現。
2. 水洗・乾燥槽では、傾斜処理により純粋・エア使用量を低減。

レジスト剥離装置 TRシリーズ

1. 剥離ツール「マルチスキャンジェット」と傾斜処理により、高い剥離性能を実現。ミストの発生量を低減すると共に、レジスト再付着・残渣も防止。
2. 傾斜処理により、純水・エア使用量を低減。
3. 剥離後の洗浄機能として洗浄モジュールとのインラインも可能。

レジスト現像装置 TDシリーズ

1. ディップ、スプレー、パドル処理から選択できます。
2. 水洗・乾燥槽では、傾斜処理により純粋・エア使用量を低減。
3. 塗布との一貫ラインで安定した薄膜形成を実現します。

【対応基板サイズ】
　　300 × 300mm 以上

お問い合わせはこちら