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フットプリント半減、生産性1.5倍の優れたコストパフォーマンスを実現したウエット洗浄装置を開発

2017年7月10日

Doc. No.: SPE170710-1J

 

 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズはこのほど、同シリーズの従来モデルに比べて設置面積を半減させ、生産性を1.5倍まで高めたウエット洗浄装置を開発。7月10日から、同装置の販売を開始します。


CW-2000

この画像の印刷用データ(解像度300dpi)は、
下記URLよりダウンロードできます。
 (www.screen.co.jp/press/download/SPE170710-1.zip)

  


 

 

 近年、スマートフォンや車載用途を中心に、200mmの半導体ウエハーを使用して生産される電子デバイスの需要が拡大しています。さらに、今後はIoTの進展によってさまざまな種類の電子デバイスが必要となるため、デバイスのサイズや種類、生産量に柔軟に対応できる、コストパフォーマンスに優れた洗浄装置が求められています。

 このような世界的動向を背景に当社は、長年培ってきたバッチ式洗浄装置のノウハウを継承した「コンパクトウェットステーション CWシリーズ」の最新機種「CW-2000」を開発しました。

 この装置は、従来は半導体工場内のサブエリアに設置されていた薬液キャビネットや冷却ユニットなどの付帯設備を、本体内部にビルトインしたオール・イン・ワンコンセプトを採用することで、従来モデル比半減という省スペースを実現しました。また、搬送機構の刷新により、1時間当たり標準で150枚、オプションのハーフピッチ仕様では最大300枚までのウエハー洗浄が可能です。さらに、目的や用途に合わせて処理槽数を選択できるため、フレキシブルで拡張性に優れ、研究開発から量産に至るまでのさまざまなニーズに対応できる装置となっています。

 当社は、今回の「コンパクトウェットステーション CW-2000」の発売により、IoTの加速によって需要の拡大が見込まれる、200mm以下のウエハーを使った電子デバイスの製造装置市場においてビジネスの拡大を図るとともに、多様化する半導体業界のさらなる発展に貢献していきます。

 

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この装置は、2017年7月11日(火)から13日(木)まで米国・サンフランシスコで開催される「SEMICON West 2017」でご紹介します。

 

本件についてのお問い合わせ先:
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
社長オフィス 企画部
TEL:075-417-2527
speinfo@screen.co.jp

 


  掲載されている情報は発表時のものです。最新情報と異なる場合がありますのでご了承ください。

 


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