- 膜質コントロール
イオンビームでアシストすることで、密着性や膜密度を向上。
また、吸収、散乱を抑え、屈折率、膜応力のコントロールが可能です。
イオンエネルギーの高いRF Grid Type の選択も可能です。
枚葉式EB蒸着システム IBADシリーズ
UNIVACが誇る、さまざまな光学膜成膜に最適なEB蒸着システム
UNIVACが誇る、さまざまな光学膜成膜に最適なEB蒸着システム
特長
- 低温・薄膜成膜が可能
- 自社開発の拡散ポンプで、排気時間を短縮
- 最大限の生産量を確保する、安定した成膜と優れた均一性
- 容易なオペレーション
- メンテナンス性に優れた構造
イオンビーム源（エンドホールタイプ）
電子ビーム源モジュールとるつぼ
- 高効率加熱
直接蒸着材料を加熱するため、タングステン(W), タンタル(Ta), モリブデン(Mo)や酸化物など高融点材料の蒸着が可能。
- 反応レスるつぼ
水冷式銅製るつぼを使用。熱による蒸着材料との反応がないため、ピュアな材料を蒸着できます。
- ランニングコスト低減
電子ビーム源には耐久性に優れたタングステンフィラメントを使用。抵抗加熱式と比較して、大幅にランニングコストが削減されます。
主な用途
機能膜、表面処理、表面改質
成膜能力（例）
| 層数 |
6-11層
|
| 反射率（AR） |
≦ 1.0％
|
| 接触角（AF） |
≧ 110°
|
| 基板サイズ |
250mm × 170mm
|
| 処理枚数／バッチ |
45pcs
|
| タクト時間 |
80min
|
IBADシリーズ
Size : Φ900xH1080
Size : Φ1050xH1280
Size : Φ1200xH1080
Size : Φ1350xH1400
Size : Φ1500xH1500
Size : Φ1650xH1850
Size : Φ2700xH1750
Size : Φ2000xH1750