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エリプソ式膜厚測定装置

RE-3500

loT向け電子デバイスに対応した計測装置

  • C-WET spin
  • LMBD ACE

統合プラットフォームコンセプト

  • φ100mmからφ300mmまでのウェーハサイズに対応
  • FOUP、SMIF、オープンカセットなど多様なウェーハ搬送機構に対応
  • パーツ共通化による安定供給と短納期に対応

<関連製品>

特長

1. 微小エリア・高精度測定

マイクロスポット光学系の採用により、40μm角の微細なエリアを高精度に測定します。

2. ハイスループット

新開発光学ヘッドを搭載し、従来比2倍のハイスループットを実現しました。

3. 分光エリプソメータ搭載

膜厚と光学定数の同時測定が可能。膜厚だけでなく、膜質の管理を行うことが重要な工程や、薄膜材料の開発、成膜プロセス開発に適しています。

4. 単波長エリプソメータ搭載可能(オプション)

膜厚20nm以下の超薄膜を高精度で測定可能な単波長エリプソメータ(オプション)も搭載可能です。光源に長寿命タイプのレーザーダイオードを採用しており、大幅にランニングコストを削減します。

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