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DR-8000

自動線幅測定装置

DR-8000

フォトマスク品質管理のオールインワンツール

特長

高解像度UV顕微鏡を搭載したフォトマスクの測定ツール
微細パターンの線幅（CD）をナノオーダーの高い繰り返し精度で測定可能。CD測定のみならず、フォトマスクの開発・品質保証に必要な、露光空中像の観察、透過率、位相シフト量の測定にも対応。フォトマスク業界の標準設備として数多くの実績があり、さまざまな基板への対応が可能。
（CD：Critical Dimensions）
 

  1. ナノオーダーの測定再現性でCDを測定

    ■CD測定
    CD測定に特化した専用UV対物レンズ、均質なUV透過照明を搭載し、高い解像度と安定性を実現。強力なエッジ決定アルゴリズムとSCREEN独自のフォーカスシステムにより正確かつ安定的に測定が可能。 孤立線幅、L&S線幅、L&Sピッチ、ホール・ドットパターン、レジストパターンなど、様々なパターンに対応。多様で複雑なパターンに対応したマルチエッジCD測定機能を開発しました。
    dr8000_img01.png
     
  2. フォトマスクの開発・品質保証に必要な露光空中像の観察、透過率、位相シフト量の測定に対応

    dr8000_img02.png■OR機能（空中像計測）
    露光波長において、NA、照明σを制御し露光転写性評価に有効なツール。
    空中像の強度・CD測定に対応しており、パターン欠陥の定量評価に使用可能。（OR : Optical Reader）


    ■位相シフト量測定
    SCREEN独自のダブルスリット法により露光波長における位相シフト量の測定が可能。
    ダブルスリット干渉縞のワンショット画像と独自アルゴリズムから高い精度で位相シフト量の測定が可能。

    ■透過率測定
    ハーフトーン膜、位相シフト膜などの透過率を測定可能。
    強度の安定性に優れたLED光源と、光源の強度モニターを駆使し、高い繰り返し精度（0.1%以下）を実現。

    ■レビュー機能
    欠陥検査装置の出力した座標データをもとに、欠陥の高解像度レビューが可能。
    ペリクル貼り付け後のフォトマスクにも対応。
     
  3. 光干渉式膜厚測定装置VMシリーズのヘッド搭載により、膜厚測定にも対応可能
    フォトマスク以外のSiウェーハ、ガラス基板のデモ評価にも対応。

    ■標準ラインアップ
    半導体向けフォトマスク：4,5,6,7,9inchフォトマスクに対応
    パネル向けフォトマスク：大型フォトマスク基板（G6, G8, G10）に対応。AGV, MGVとの受け渡し実績も豊富

    特殊用途向けもございますのでお問い合わせ下さい。
    ウェーハ（例）100〜300mm (透明 or 不透明)
    ガラス基板（例）600mm × 600mm
    dr8000_img03.png

 

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