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Purion シリーズ(Axcelis社製品)

イオン注入装置

Purion
シリーズ

  • axcelis

枚葉式Purionプラットフォームは、業界初の「イオン注入装置ソリューションスイート」を実現しています。
「イオン注入装置ソリューションスイート」とは、3タイプ*のイオン注入システムおよび2タイプのウェーハサイズ(200・300mm)を共通のプラットフォームで対応できるシステムです。
これにより、お客さまの工場・製品に柔軟に適応でき、高い生産性とサービスを提供します。

* 高エネルギー・高電流・中電流の3タイプ

 

正確なドーパント配置、電気的性能の向上、歩留まり向上のために設計された4つの独自技術・差別化機能:
1 Purion コンタミネーションシールド
2 Purion ベクトル線量と角度制御システム
3 Purion 500WPHが可能なウェーハ搬送エンドステーション
4 長寿命Eterna ELSイオン源

Purion XE(高エネルギーイオン注入装置)

Purion XEシリーズは、RFリニアアクセラレータ技術を利用して、現在そして今後のロジック・メモリ・イメージセンサデバイス製造に必要な高エネルギー処理条件のすべてに対応することが可能です。

- Purion XE :40keV-4.50MeV
- Purion EXE :40keV-5.25MeV
- Purion VXE :40keV-8.00MeV

Purion H(高電流イオン注入装置)

Purion H3は、Purion Hプラットフォームにおける300mmウェーハ向け主力製品です。
オプション選択により、低温−70℃・高温200℃での処理も可能となります。また、お客さまの幅広いご要望にお応えするためにPurion H+などもラインアップしています。

- Purion H3 :500eV-60keV
- Purion H+ :200mmウェーハ処理時のスループット425WPH

Purion M(中電流イオン注入装置)

Purion Mは、今後重要となる中電流HALO処理やサブMeV処理に対応しています。また、Purion M SiCオプションでは、業界をリードするAI+ビーム電流と長寿命の独自ソース技術により、150mmウェーハを高温700℃処理することが可能です。

- Purion M :2keV〜1MeV
- Purion M :最大シングルイオンチャージ335keV

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズはAxcelis Technologiesと
Axcelis製イオン注入装置「Purionシリーズ」の国内における販売パートナー契約を締結しています。

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