ウェットステーション
CW-2000
【Wafer size 50mm ~ 200mm】
フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置

Wafer size 150mm ~ 200mm
ライン構成がフレキシブルな高スループット
バッチ式洗浄システム
キャリア搬送処理のWS-620C(150mmウェーハ用)/ WS-820C(200mmウェーハ用)と、キャリアレス搬送処理のWS-820L(200mmウェーハ用)を提供します。
目的に応じて、自由なシステム構成が可能。処理槽構成は最大13槽まで可能です。
複数槽設置と最大6台まで搭載可能な搬送ロボットにより、高スループットを実現します。
処理槽設計の最適化や厳しい薬液管理、クリーンな乾燥部などにより、安定した高品質な処理が可能です。
ウェーハ移載機、カセットストッカなどの周辺機器も多種準備しています。
減圧乾燥装置が搭載可能なため、ウォータマークの発生を低減したクリーンな乾燥ができます。(WS-820Lのみ対応)
QDR : Quick Dump Rinsing bath / FR : Final Rinsing bath
SD : Spin Dryer / EDR : Dump Rinsing bath
注) QDR : 機能水洗槽 FR : 最終水洗槽 SD : スピンドライヤ EDR : HF系後の機能水洗槽