Wafer size 100mm ~ 300mm
通信用デバイスなどの面内多点測定に最適、高速モードで毎時160枚のハイスループットを実現
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エリプソ式膜厚測定装置
RE-3500
【Wafer size 125mm ~ 300mm】 loT向け電子デバイスに対応した計測装置
光干渉式膜厚測定装置
VM-1200/ VM-1300
【Wafer size 100mm ~ 300mm】 製造ラインへの導入も可能な卓上モデル
VM-1020
【Wafer size 50mm ~ 300mm】 R&Dに最適な顕微鏡モデル
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