エリプソ式膜厚測定装置
RE-3500
【Wafer size 125mm ~ 300mm】
loT向け電子デバイスに対応した計測装置
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Wafer size 100mm ~ 300mm
光干渉式膜厚測定装置VM-1200/
VM-1300
製造ラインへの導入も可能な卓上モデル
特長
- 分光器にCCDイメージセンサを採用することで、可視光の全波長域にわたって同時に測定でき、膜厚を高速・高精度に測定できます。
- レシピウイザード機能を使用することにより、複雑なレシピ作成作業を簡単に行え、レシピの管理、登録数も大幅に向上しています。
- 測定データの3次元マッピング表示、膜厚値修正機能、ヒストグラム表示、統計計算などデータのきめ細かい2次加工が可能です。
- オートステージ、オートフォーカスにより、自動測定が可能です。
- 標準で25膜種の膜厚測定と分光反射率測定に対応。また、標準以外の各種測定プログラムを幅広く準備しています。
- 最大4層膜までの積層膜同時測定が可能です。
- 屈折率測定が可能です。
- LAN対応することにより、工場内のネットワークに簡単に接続できます。（オプション）
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その他の取扱製品
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VM-3500
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VM-1020
【Wafer size 50mm ~ 300mm】
R&Dに最適な顕微鏡モデル
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