エリプソ式膜厚測定装置RE-3500

マイクロスポット光学系の採用により、40μm角の微細なエリアを高精度に測定します。

新開発光学ヘッドを搭載し、従来比2倍のハイスループットを実現しました。

膜厚と光学定数の同時測定が可能。膜厚だけでなく、膜質の管理を行うことが重要な工程や、薄膜材料の開発、成膜プロセス開発に適しています。

膜厚20nm以下の超薄膜を高精度で測定可能な単波長エリプソメータ（オプション）も搭載可能です。光源に長寿命タイプのレーザーダイオードを採用しており、大幅にランニングコストを削減します。

※SWE Single Wavelength Ellipsometer　単波長エリプソメータ
※SE Spectroscopic Ellipsometer　分光エリプソメータ
※SR Spectroscopic Reflectometer　光干渉式膜厚計