Wafer size 200mm

ウェーハ洗浄装置 / ウェットステーションFC-821L

ハーフピッチとワンバスを採用した省スペースバッチ式洗浄装置

特長

ウェーハのハーフピッチ搬送を実現。処理槽を小型化することで、薬液、純水の使用量を削減しています。
薬液循環槽（CHB）を搭載することにより、高温薬液や高濃度薬液も使用可能。幅広い洗浄プロセスに対応しています。
1つの槽で薬液、水洗処理を行うワンバス処理を装備。常に微細パターンの内部まで濡れ性を確保し洗浄できます。しかも、洗浄処理中のウェーハが大気に触れないため自然酸化膜の発生も抑制できます。また、ここでは5種類の薬液を1槽で使用できるため、幅広い洗浄プロセスにフレキシブルに対応することができます。
減圧乾燥装置を搭載することにより、ウォータマークの発生しやすい工程においても、ウォータマークレスを実現します。

ウェットステーション

WS-620C/
WS-820C/
WS-820L

【Wafer size 150mm ~ 200mm】
ライン構成がフレキシブルな高スループットバッチ式洗浄システム

ウェットステーション

CW-2000

【Wafer size 50mm ~ 200mm】
フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置