技術情報

半導体製造プロセス

パソコンや携帯電話、自動車、家電製品などをはじめ、あらゆる電子機器に搭載される集積回路(IC、LSI)。その集積度や性能は「18カ月(1年半)で2倍になる」とされており、半導体業界のロードマップでは回路パターンのDRAMのハーフピッチ(配線ピッチ幅の半分)が2008年に57nm(ナノは十億分の一)、2013年には32nmにまで微細化が進むといわれています。
集積回路の基板となるのは、高純度の単結晶シリコンで作られたウエハー。1枚でより多くのチップを生産できる300mmが主流です。

スピンスクラバー(SS-3100) 枚葉式洗浄装置(SU-3000) ウェットステーション(FC-3000) 枚葉式洗浄装置(SU-3000) コータ・デベロッパ(SOKUDO DUO) 枚葉式洗浄装置(SU-3100) ウェットステーション(FC-3100) 枚葉式洗浄装置(SU-3100) コータ・デベロッパ(RF3) コータ・デベロッパ(SK-60B/80B) ウェットステーション(FC-3000) ウェットステーション(FC-3100) 枚葉式洗浄装置(SU-3000) 枚葉式洗浄装置(SU-3100) フラッシュアンプアニール装置(LA-3000-F) ウェットステーション(FC-3000)ウェットステーション(FC-3100) 枚葉式洗浄装置(SU-3000) 枚葉式洗浄装置(SU-3100)

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