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エリプソ式膜厚測定装置 RE-3500

エリプソ式膜厚測定装置 RE-3500



統合プラットフォームコンセプト


統合プラットフォームコンセプト


 ● φ100mmからφ300mmまでのウェーハサイズに対応

 ● FOUP、SMIF、オープンカセットなど多様なウェーハ搬送機構に対応

 ● パーツ共通化による安定供給と短納期に対応


<関連製品>
光干渉式膜厚測定装置 VM-3500
パターン付ウェーハ外観検査装置 ZI-3500


特長

  1. 微小エリア・高精度測定
    マイクロスポット光学系の採用により、40μm角の微細なエリアを高精度に測定します。
  2. ハイスループット
    新開発光学ヘッドを搭載し、従来比2倍のハイスループットを実現しました。
  3. 分光エリプソメータ搭載
    膜厚と光学定数の同時測定が可能。膜厚だけでなく、膜質の管理を行うことが重要な工程や、薄膜材料の開発、成膜プロセス開発に適しています。
  4. 単波長エリプソメータ搭載可能(オプション)
    膜厚20nm以下の超薄膜を高精度で測定可能な単波長エリプソメータ(オプション)も搭載可能です。光源に長寿命タイプのレーザーダイオードを採用しており、大幅にランニングコストを削減します。

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