SCREEN 半導体機器カンパニー

特長

1. ウェーハのハーフピッチ化により処理槽を小型化。薬液、純水の使用量を削減すると共に、スループットを向上させました。
2. 槽構成を最大6槽まで自由に行え、薬液循環槽（CHB）の連続処理が可能。H3PO4、SPMなどの長時間薬液処理でも、高いスループットが得られます。
3. 一つの槽で一連の薬液・水洗処理を行うため、常に微細パターンの内部まで濡れ性を確保した洗浄ができます。また、洗浄処理中のウェーハが大気に触れないため、自然酸化膜の発生も抑制できます。
4. 1槽で5種類の薬液が使用できるため、幅広い洗浄プロセスに対応できます。また、従来のウェットステーションに比べると必要な処理槽の数が少ないため、装置サイズも大幅にコンパクトになりました。