株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズは、半導体製造においてキーとなる3機種の装置を、ニューヨーク州のIBM Researchアルバニー・ナノテク半導体リサーチセンターに納入します。

当社の枚葉式洗浄装置、レーザーアニール装置、コータ・デベロッパはニューヨーク州アルバニーにあるEUV Center of Excellenceに導入され、IBM Researchの最先端半導体技術の研究開発をサポートします。

IBM Researchの半導体グループ担当バイス・プレジデント Mukesh Khareは、「IBMは、半導体の限界に挑む研究課題に意欲的に取り組んでいます。クラウド・コンピューティングやコグニティブ・システムに対する将来の需要に応える技術研究を加速させるためには、材料、プロセス、そしてデバイス構造のイノベーションが不可欠です」と述べています。

SCREENセミコンダクターソリューションズ 代表取締役社長執行役員 須原忠浩は、「最先端ロジック半導体の研究を進めるIBM Researchに当社の装置を選択いただいたことは大変光栄なことです。このことは、ウエット洗浄、サーマルアニール、コータ・デベロッパという複数の分野において、当社の装置技術やリソースが最先端半導体プロセス開発に寄与することを証明するものです」と述べています。

IBM Researchに導入されるのは、半導体洗浄装置のAQUASPIN SU-3200、UVレーザーアニール装置のLT-3100、コータ・デベロッパのDT-3000の3機種で、SU-3200は、最先端の7nm以降の半導体製造において、微小パーティクルやパターン倒壊のないウエット洗浄プロセスを提供します。LT-3100はグループ会社でフランスに拠点を置くLaser Systems & Solutions of Europe SASU（LASSE）が製造し、IBM Researchはクリティカルレイヤーの溶解温度での活性化および再結晶化など、ナノ秒単位で処理を行えるUVレーザーアニールの応用技術を評価します。さらに、DT-3000は、IBM ResearchにおいてEUV Center of Excellenceのリソグラフィーパターニングツールラインに導入され、Directed Self-Assembly（DSA）、Spin-On Dielectrics（SOD）、下層膜塗布の開発促進に活用されます。

これらの3機種は、米国ニューヨーク州立工科大学（State University of New York Polytechnic Institute)ナノスケール理工学カレッジ（CNSE）にあるIBM Research アルバニー・ナノテクのクリーンルームに、年内に導入される予定です。これらの300ミリウェーハ用装置の導入により、アルバニーにおける当社のプレゼンスがさらに高められると考えます。

■ IBM Research

世界13ヶ所の研究所に3,000人を超える研究者を擁するIBM Researchは、70年以上もの間、情報技術の未来を明らかにしてきました。IBM Researchからは、6名のノーベル賞受賞者をはじめ、U.S. National Medals of Technologyの受賞歴10回、U.S. National Medals of Scienceの受賞歴5回、Turing Awardの受賞歴6回の実績に加えて、19名のNational Academy of Sciencesそして19名のU.S. National Inventors 殿堂入りを輩出しています。 IBM Researchについての詳細はホームページを参照ください。
http://www.ibm.com/research

■ 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

SCREENセミコンダクターソリューションズは、大日本スクリーン製造株式会社の半導体製造装置ビジネスを継承し、SCREENホールディングスのグループ会社として設立されました。当社は、ウェーハ洗浄装置、リソグラフィー装置、サーマルアニール装置など幅広い分野での装置メーカーで、半導体製造装置業界では世界のトップ10サプライヤーの地位を確立しています。
SCREENセミコンダクターソリューションズについての詳細はホームページを参照ください。
https://www.screen.co.jp/spe

本件についてのお問い合わせ先：

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
社長オフィス 企画部
TEL:075-417-2527

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