2008年 半導体洗浄装置の世界トップシェアを獲得 枚葉式スプレイ洗浄装置 マーケットシェア No.1 60.3% ウェットステーション マーケットシェア No.1 57.4% スクラバ マーケットシェア No.1 80.1%

新着情報

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2009年11月12日
展示会・セミナー情報に「SEMICON JAPAN 2009 出展のご案内」を追加しました
2009年10月30日
広告ライブラリーに「日経マイクロデバイス 11月号 広告」を追加しました
2009年10月30日
技術情報に「Dr.クリーンのよくわかる技術講座(4)」を追加しました
2009年9月30日
広告ライブラリーに「日経マイクロデバイス 10月号 広告」を追加しました
2009年9月30日
技術情報に「Dr.クリーンのよくわかる技術講座(3)」を追加しました

ニュースリリース

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2009年12月4日
台湾・TSMC社から「Best Delivery Support Award」を受賞PDF(220KB)
2009年5月7日
株式会社SOKUDO(大日本スクリーンの関連会社)、次世代塗布現像装置「SOKUDO DUO」世界初の毎時300枚の高スループット処理を実証PDF(138KB)
2009年4月21日
株式会社SOKUDO(大日本スクリーンの関連会社)、次世代塗布現像装置「SOKUDO DUO」を発売~世界初のデュアルトラックシステム採用~PDF(189KB)
2009年4月10日
枚葉式半導体洗浄装置の世界シェア60%*以上を達成PDF(201KB)
2008年11月20日
世界初、VOC排出量ゼロの300ミリ半導体ウエハー洗浄装置を開発~環境負荷とランニングコストを大幅に抑制するドライエアー乾燥技術を搭載~PDF(226KB)
2008年10月24日
ウエハー端面の新たなエッチング洗浄技術を開発~処理の高精度化により、半導体デバイスの生産効率と歩留まりの向上に貢献~PDF(224KB)
2008年8月5日
半導体製造装置の総合研修拠点「グローバルトレーニングセンター」を開設~顧客満足のさらなる向上を目指し、実践的でハイレベルなエンジニアの育成を強化~PDF(180KB)

新着情報

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SEMICON Korea 2010
開催期間:2010年2月3日(水)~5日(金)
開催場所:Seoul, Korea
SEMICON China 2010
開催期間:2010年3月16日(火)~18日(木)
開催場所:Shanghai, China
SEMICON Russia 2010
開催期間:2010年6月14日(月)~16日(水)
開催場所:Moscow, Russia
SEMICON West 2010
開催期間:2010年7月13日(火)~15日(木)
開催場所:San Francisco, CA

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株式会社テックインテック

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半導体製造装置および画像情報処理機器の開発・製造

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石英ガラス洗浄槽などの生産


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電子機器の中古・新古装置のリサイクル販売、サービス

株式会社SEBACS

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国内における半導体製造装置の保守サービス


株式会社FASSE

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半導体製造装置(洗浄装置)の組み立て、検査、搬入、据え付け

株式会社SOKUDO

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半導体関連コータ・デベロッパに関する開発、製造、販売、保守事業