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Micromachine/MEMS 2010
出展のご案内
会期：2010年7月28日（水）～30日（金） 10：00～17：00
会場：東京都・東京ビッグサイト 東5・6ホール
弊社ブース：展示ホール5〔F-17〕
拝啓 時下ますますご健勝のこととお喜び申し上げます。
大日本スクリーンは、7月28日から30日まで東京ビッグサイトで開催されます｢第21回マイクロマシン／MEMS展｣に弊社グループ企業の(株)SOKUDO、(株)テックインテック、(株)サークと共同出展致します。
会期中は各社の最新の製品･技術を展示し、お客様のご来場をお待ちしております。
この機会に是非大日本スクリーングループのブースへお越しいただき、「FRONTIER製品」をご確認ください。
出展内容
大日本スクリーン製造株式会社
| 省スペース、低コストのバッチ式自動洗浄装置求 コンパクトウェットステーション CW-1500   |
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| 参 考 出 品 | |
| ハイスピード／ハイコスト パフォーマンスを追求 パターン付きウェーハ外観検査装置 ZI-2000  |
超微細な凹凸パターンを直接形成 ナノインプリント製造装置 XT-1000  |
 株式会社 SOKUDO |
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| 薄・厚ウェーハから化合物半導体ウェーハ、 ガラス基板まで塗布・現像を自在にアレンジ コータ･デベロッパ SK-60B/80B |
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 株式会社 テックインテック
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| 段差基板や貫通基板への レジスト塗布に最適 レジストスプレイコータ RS-C810A/810L  |
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 株式会社 サーク
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| 電子機器の中古・新古装置のリサイクル販売・サービスを提供 |
会場案内図
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