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SEMICON Japan 2008

出展のご案内

会期:2008年12月3日(水)~5日(金) 10:00~17:00

会場:千葉県・幕張メッセ(日本コンベンションセンター)

弊社ブース:展示ホール4〔4D-601〕

大日本スクリーン製造は、世界シェアNo.1の洗浄装置をはじめ、フラッシュランプアニール装置、膜厚測定装置など、次代に対応した最新の装置をご紹介し ます。さらに環境への負荷を低減する新乾燥技術や新材料などの導入で注目が集まるベベルエッチングプロセスの新技術もご紹介します。
この機会に是非とも弊社ブースにご来場いただき、最先端のテクノロジーをご確認ください。

出展内容

枚葉洗浄装置 SU-3100
  光干渉式膜厚測定装置
VM シリーズ
[新技術紹介] ベベルエッチングチャンバ(BEC)
 
ウェットステーション FC-3100
[新技術紹介] 新乾燥技術
[参考出品] 燐酸再生装置
  [NEW] トレンチ測定機能付膜厚測定装置
VM-3210
 
 
スクラバ SS-3100
  エリプソ式膜厚測定装置
RE シリーズ
 
フラッシュランプアニール装置 LA-3000-F   マスク座標測定装置 Vistec LMS IPRO4
 
レーザー微細加工装置
  マスク線幅測定装置 Vistec LWM 500WI
 
半導体表面評価技術のご紹介 SV-3000 / CV-3100

会場案内図


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