ホーム  > 展示会・イベント情報 > 2006年 > SEMICON Japan 2006

印刷

SEMICON Japan 2006

出展のご案内

会期:2006年12月6日(水)~12月8日(金) 10:00~17:00

会場:千葉県・幕張メッセ(日本コンベンションセンター)

弊社ブース:展示ホール4[4D-601]

 
 

出品機種のご紹介

[NEW] 新枚葉洗浄装置
SU-3100
  枚葉洗浄装置
SU-3000
[NEW] スクラバ
SS-3000BC
  ウェットステーション
FC-3100
フラッシュランプアニール装置
LA-3000-F
  光干渉式膜厚測定装置
VM-1020/1030 + ウェーハローダ
光干渉式膜厚測定装置
VM-1200
  [NEW] 光干渉式膜厚測定装置
VM-2200
エリプソ式膜厚測定装置
RE-3000/3100
  マスク・ウェーハ座標測定装置
Vistec LMS IPRO3
 
マスク線幅測定装置
Vistec LWM 500WI
  非接触C-V測定装置
CV-3000
 
[技術紹介]高感度表面電位計   [参考出展]転写成膜装置  
[NEW] ソフトウェア開発管理システム

 

   
非研磨洗浄により低コストと高生産を実現
 
最適な洗浄プロセスに応える進化形
 

ページの先頭に戻る