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SEMICON Japan 2005

出展のご案内

大日本スクリーンは、ユーザーの皆様とのベストパートナーを目指して、半導体プロセスの最新ニーズに応える製造装置を開発、提供しています。セミコン・ジャパン2005では、液浸対応コータ・デベロッパ、バッチ式・枚葉式洗浄装置、フラッシュランプアニール装置をラインアップしてご紹介致します。この機会にぜひとも当社ブースにご来場いただき、最先端テクノロジーをご確認ください。

会期:2005年12月7日(水)~12月9日(金) 10:00~17:00

会場:千葉県・幕張メッセ(日本コンベンションセンター)

弊社ブース:展示ホール4[4B-701]

 

 

出品機種のご紹介

コータ・デベロッパ 
RF3(アールエフキューブ)
エリプソ式膜厚測定装置 
RE-3000/3100
[NEW] ニューウェットステーション 
FC-3100
光干渉式膜厚測定装置 
VM-2100/3100
ウェットステーション 
FC-3000
[NEW]マスクウェーハ座標測定装置
Leica LMS IPRO3
枚葉洗浄装置 
SU-3000
マスク線幅測定装置
Leica LWM 500WI
フラッシュランプアニール装置
LA-3000-F
[参考出品]スキャトロメトリー応用システム
赤外線ランプアニール装置
LA-830
 

 

   

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