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SEMICON Japan 2004

SEMICON Japan 2004

出展のご案内

大日本スクリーンは、ユーザーの皆様のベストパートナーを目指して、半導体プロセスの最新ニーズに応える製造装置を開発、提供しています。セミコン・ジャパン2004では、液浸対応コータ・デベロッパ、バッチ式・枚葉式洗浄装置をラインアップしてご紹介致します。この機会にぜひとも当社ブースにご来場いただき、最先端テクノロジーをご確認ください。

会期:2004年12月1日(水)~12月3日(金) 10:00~17:00

会場:幕張メッセ(日本コンベンションセンター)

ブースのご案内
 

出品機種のご紹介

コータ・デベロッパ 
RF3(アールエフキューブ)
赤外線ランプアニール装置 
LA-830
コータ・デベロッパ 
SK-2000
SK-3000
エリプソ式膜厚測定装置 
RE-3000/3100
ウェットステーション 
FC-3010
光干渉式膜厚測定装置 
VM-2100/3100
ウェットステーション 
FC-3000
マスクウェーハ座標測定装置
Leica LMS IPRO2
枚葉洗浄装置 
SU-3000
マスク線幅測定装置
Leica LWM 500WI
アッシング洗浄装置
Raccoon
ウェーハレビューステーション
Leica INS 3300DUV
フラッシュランプアニール装置
LA-3000-F
 

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