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SEMICON Japan 2007

SEMICON Japan 2007

出展のご案内

会期:2007年12月5日(水)~7日(金) 10:00~17:00

会場:千葉県・幕張メッセ(日本コンベンションセンター)

弊社ブース:展示ホール4[4D-601]

会場風景

大日本スクリーンは、毎時300枚のハイスループットを実現した次世代スクラバ「SS-3100」、微細化対応とハイスループットを両立したウェットステーション「FC-3100」、枚葉洗浄装置「SU-3100」などの各種洗浄装置をはじめ、フラッシュランプアニール装置、膜厚測定装置など、次世代に対応した最新の装置をご紹介します。
この機会にぜひとも当社ブースにご来場いただき、最先端のテクノロジーをご確認ください。

出品機種のご紹介

[NEW] 次世代スクラバ
SS-3100
AQUASPIN
  光干渉式膜厚測定装置
VM-1200 シリーズ
LAMBD ACE
枚葉洗浄装置
SU-3100
AQUASPIN
  光干渉式膜厚測定装置
VM-2200/3100 シリーズ
LAMBD ACE
ウェットステーション
FC-3100〔新技術搭載〕
F-WET
  エリプソ式膜厚測定装置
RE シリーズ
LAMBD ACE
フラッシュランプアニール装置
LA-3000-F
  [NEW] マスク・ウェーハ座標測定装置 
Vistec LMS IPRO4
 
EESソリューションの提案
Dsflow&Dslead
  マスク線幅測定装置
Vistec LWM 500WI
 
光干渉式膜厚測定装置
VM-1020/1030
LAMBD ACE
  非接触C-V測定装置
CV-3100
 
[技術紹介]高感度表面電位計      

会場案内図

ブースのご案内

バッチ式洗浄装置に搭載される新洗浄技術の紹介

日時:2007年12月6日(木)13:30~13:50

会場:幕張メッセ 5ホール2階中央エントランス セミコン・ジャパンリリース プレゼンテーションコーナー

主催:SEMIジャパン

会場にぜひお越しください。


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