プロセス技術センター
プロセス技術センターは、最先端の半導体製造に対するプロセス・装置開発の拠点です。
プロセス開発並びに装置開発を行う専用のクリーンルームと各種実験装置を備え、プロセスの本質に迫る評価・解析のための小規模な実験から、プロセス安定性を保証する300ミリウェーハの連続処理に至るまで、次世代プロセスの確立に向けた幅広い研究開発が同一施設内で可能となります。
また、デバイスメーカー、コンソーシアム並びに薬品、部材メーカーとの共同開発やプロセスデモンストレーションを行う環境も充実し、先進のプロセス開発の更なる効率化、迅速化を実現します。
さらに、同センターは当社の半導体洗浄装置の製造拠点「Fab.FC-1,FC-2」に隣接しており、技術開発から生産技術へ、また生産技術から技術開発への情報交換が密に、且つ迅速に行えるために、生産装置に対して先進技術のタイムリーな導入を実現します。
先進プロセス開発のさらなる効率化、迅速化を実現
プロセス開発能力強化
- 最先端デバイスプロセスに適応可能なファシリティ
- プロセス装置、解析、評価設備の充実
- 高付加価値商品を出せるコア技術の開発強化
装置品質、信頼性向上
- プロセス開発と装置開発をよりスムーズに連携し、装置の信頼性／安定性を高める
共同開発のスピードアップ
- お客様との共同開発をもっとスピーディにコミュニケーション向上
コミュニケーション向上
- プロセス技術者と装置技術者とのコミュニケーションを深め、開発をよりスムースにスピーディに
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