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太陽電池関連事業
薄膜用測定装置（RE-8000)
薄膜用洗浄・エッチング装置
結晶シリコン用PSG膜除去装置
結晶シリコン用テクスチャー処理装置
シリコン原石用洗浄装置
スリット方式塗布装置（リニアコータ）
不活性ガス精製装置
バッチ式PV用拡散炉

＜薄膜系・結晶シリコン系＞
スリット式塗布装置
マルチコータ・LC-Mシリーズ

TFTアレイ用で世界シェアNo.1のスリット塗布装置を、ナノレベルの薄膜塗布用に展開。 量産用の装置で培われた技術を生かし、ガラス基板やPET基板などに、高精度で均一に高速塗布します。
また、ストライプ塗布などの展開評価や、異なる2種類の材料塗布にも対応します。
さらに、塗布後に必要となる真空減圧乾燥ユニット（自社製）やベークユニット（自社製）とインラインできるため、量産型実験設備としてもお使いいただけます。
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特長

  • スリット方式の塗布システムにより、塗布材料の極めて優れた使用効率を実現（ほぼ100％）。
  • 自社開発のスリットノズルを搭載。 大型基板の塗布にも優れた塗布均一性を実現。
  • ノズルのメンテナンス作業を全自動化し、ダウンタイムのない連続生産に貢献。
  • 基板の大型化に対応した高速塗布を実現。
  • 低粘度から高粘度までの材料に対応
    （1〜 5,000 mPa・s）。
  • ナノレベルの薄膜から厚膜まで、各種塗布材料に対応。
  • 異なる2 種類の材料塗布に対応可能な、2 ノズル仕様もラインアップ。
  • 全面塗布のほか、ストライプ塗布、間欠塗布、ブロック塗布も可能。

＜塗布例＞