あらゆるニーズをコンパクトに集約

VM-2200シリーズ

特長

1. 高速モードで毎時150枚のハイスループットを実現しました。（SiO2、5ポイント測定時）
2. 装置の置換え、レイアウト設計への悩みを軽減したコンパクトな装置です。
   装置寸法 ：965mm(W)×785mm(D)×1695mm(H)
3. ログ保存機能を装備し、メンテナンスサポートを向上させています。また、長年、半導体業界で培った経験を元に、ユーザメンテ性を重視した設計となっています。国内で設計、生産している為、パーツ供給が迅速に行えます。
4. 長年培った経験を元に、容易なレシピ作成、光学定数のインプットを実現しています。マウス操作を重視したアプリケーションになっています。ペンタッチ式パネルへの対応も可能になりました。ステージ操作にはジョイステック機能を採用しました。

VM-3100シリーズ

特長

1. 3σ=0.3nmの優れた再現性で膜厚を測定します。（SiO2 on Si, 1μmを10×対物レンズで測定の場合）
2. 標準で25膜種の膜厚測定に加え、UV仕様^※で超薄膜あるいはSOI、ポリシリコン上の膜測定も可能です。
3. オートフォーカスには、膜種、膜厚に応じてレーザとコントラストの二方式を標準搭載しています。
4. φ1μmのマイクロスポットで微小領域を測定します（50×対物レンズ^※）。また、画像アライメント※によりパターン付きウェーハを自動マッピングできます。

※ ： オプション