高精度・低価格の多機能型自動膜厚測定装置

特長

1. 光干渉方式による測光プロファイルから概要膜厚値を求め、最適な測定方法を自動で判断し、誰でも簡単に信頼性の高い測定が実現できます。
2. エリプソ測定では、ウェーハの反り等による傾きの影響を無くし、精度の高い測定が可能となりました。
3. 単波長エリプソメータでは、３σ＝0.006nm（SiO2 on Si t=5nm）の優れた再現性で超薄膜を測定します。
4. 座標相関方式（弊社独自のアルゴリズム）を採用により、高い画像認識率を達成し、アライメントの信頼性が向上できました。
5. 単波長エリプソメータの光源に長寿命のレーザダイオードを採用することにより、ランニングコストを低く抑えました。
6. 分光エリプソのスポット径：φ25μmを実現しました。□40μmのTEGの測定が可能であり、モニタウェーハの削減に有効です。